2009年2月18日(水)から20日(金)までの3日間、東京ビッグサイト(東京都江東区有明)にて「nano tech 2009 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議」が開催され、弊社では光照射式静電気除去装置「フォトイオナイザ」、ライン照射型 低エネルギー電子線照射源「EBエンジン®」・「SEM・TEMサンプルプレパレーション装置」等を出品いたしました。
会期中は多数のご来場を頂き、誠にありがとうございました。出展製品に関してご質問・ご要望等ございましたら、どうぞお気軽にお問い合わせください。
今後も各製品のラインアップの充実を図り、お客様のニーズにお応えしてまいります。 |